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作为第三代半导体材料的代表者,氮化镓 (GaN) 凭借其优异的电气性能、高热导率、电子饱和率和耐辐射性等特性,引领了全球功率半导体产业革新,随着氮化镓技术的不断成熟和应用领域的不断拓展,其市场规模正呈现出爆发式增长态势。英飞凌长期深耕氮化镓领域,再次推动了氮化镓革命,率先成功开发出了全球首个 300mm 氮化镓 (GaN) 功率半导体晶圆技术,是全球首家在现有且可扩展的大规模生产环境中掌握这一突破性技术的企业,进一步推动了 GaN 市场快速增长。
目前,英飞凌全新一代的氮化镓产品 CoolGaN™ G3 和 CoolGaN™ G5 系列震撼来袭!采用英飞凌自主研发的高性能 200mm 晶圆工艺制造,将氮化镓的应用范围扩大到 40V 至 700V!
CoolGaN™ G3 系列覆盖 60V、80V、100V 和 120V 电压等级,以及 40V 双向开关 (BDS) 器件,主要面向电机驱动、电信、数据中心、太阳能和消费应用。
CoolGaN™ G5 系列基于 GIT (Gate Injection Transistor,栅注入晶体管)技术推出新一代 650V 晶体管,以及基于 G5 的 IPS 驱动产品,适用于消费、数据中心、工业和太阳能领域的应用。
1. 拥有出色的软开关和硬开关性能,提供 40V、650V 和 850V 电压的 CoolGaN™ 双向开关 (BDS)。
2. 具有无损电流检测功能,简化了设计并进一步降低了功率损耗的 CoolGaN™ 智能感应 Smart Sense。
下图 (图3) 为英飞凌新产品供货期,与英飞凌一起,再次推动氮化镓革命!